ガラス基板用レーザテクスチャリング装置
安定性に優れたCO２レーザと独自光学系により、ガラスディスク表面に均一な微小バンプをダイレクトに形成する装置です。
  • 安定したバンプ加工が可能
  • 高速処理能力を実現(両面同時可能：KLT-1000(G)）
  • バンプ形状、各種加工条件（バンプピッチ、加工領域など）を簡単に設定可能
  • オートフォーカス対応
KLT-1000(G)

最高処理能力１０００PPHで量産を可能にした、ガラス基板専用レーザテクスチャリング装置
基本仕様
対象基板 ガラス
基板サイズ (inch) 3", 3.5"
スピンドル回転数 500〜9999rpm
レーザタイプ C02
加工レンジ R15.5〜R30.0mm
加工モード バンプピッチ一定モード、ランダムピッチモード
バンプ間隔設定範囲 1〜100μm
処理能力 1000PPH (30μm x 30μm pitch)
サイズ (W x D x H) 1600 x 1800 x 2360 mm

　KLT-200(G)

研究開発・試作用に最適なガラス基板専用レーザテクスチャリング装置
基本仕様
対象基板 ガラス
基板サイズ(inch) 2.5", 3", 3.5"
スピンドル回転数 500〜9999rpm
レーザタイプ C02
加工レンジ R15.5〜R30.0mm(3",3.5") R12.5〜R30.0mm(2.5")
加工モード バンプピッチ一定モード、ランダムピッチモード
バンプ間隔設定範囲 1〜100μm
処理能力 200PPH (30μm x 30μm pitch)
サイズ (W x D x H) 2426 x 1252 x 1450 mm
  • クボタコンプス　株式会社
    〒661-8567　兵庫県尼崎市浜１丁目１番１号
    TEL:06-6491-0859 FAX:06-6491-0899